发明名称 温度测量装置和温度测量方法
摘要 本发明提供一种温度测量装置和温度测量方法,与现有技术相比能够精度良好地测量温度,能够更加精度良好地且效率良好地进行基板处理等。该温度测量装置具有:将来自光源(110)的光分解为测量光和参照光的第一分离器(120);用于反射参照光的参照光反射单元(140);用于使参照光的光路长度变化的光路长变化单元(150);用于分解来自参照光反射单元(140)的反射参照光的第二分离器(121);用于测量来自温度测定对象物(10)的反射测量光与反射参照光的干涉的第一光检测器(160);用于仅测量反射参照光的强度的第二光检测器(161);从第一光检测器(160)的输出减去第二光检测器(161)的输出后计算干涉位置,计算温度的控制器(170)。
申请公布号 CN101532885B 申请公布日期 2011.03.16
申请号 CN200910126382.1 申请日期 2009.03.10
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 阿部淳;松土龙夫;舆水地盐
分类号 G01K11/00(2006.01)I 主分类号 G01K11/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种温度测量装置,其特征在于,包括:光源;用于将来自所述光源的光分解为测量光和参照光的第一分离器;用于反射所述参照光的参照光反射单元;用于使从所述参照光反射单元反射的反射参照光的光路长变化的光路长变化单元;用于将所述反射参照光分解为第一反射参照光和第二反射参照光的第二分离器;用于测量反射测量光和所述第一反射参照光的干涉的第一光检测器,其中,该反射测量光是向温度测量对象物照射所述测量光而由该温度测量对象物反射的反射测量光;用于测量所述第二反射参照光的强度的第二光检测器;和根据从所述第一光检测器的输出信号减去所述第二光检测器的输出信号所得的结果计算干涉位置,根据该干涉位置计算所述温度测量对象物的温度的温度计算单元。
地址 日本东京都