发明名称 |
基板清洁装置 |
摘要 |
一种供制造基板时所使用的基板清洁装置,该基板清洁装置用于清洁置于基板承载装置上的玻璃基板,其包含连接件以及磁吸清洁件。连接件有贯穿孔以及与贯穿孔相连的开口,磁吸清洁件经由该贯穿孔穿设于该连接件,且磁吸清洁件部分暴露于连接件的开口处,其中该开口朝下面对该基板承载装置的方向形成于连接件上,暴露于该开口处的磁吸清洁件的至少一部分凸出于该开口。基板清洁装置应用于基板清洁系统上,而基板清洁系统还包含基板承载装置。基板承载装置上承载玻璃基板。基板清洁装置位于基板承载装置上方,且基板清洁装置的开口朝下面对基板承载装置,这样,暴露于开口的磁吸清洁件的部分可面对基板承载装置上所承载的玻璃基板,而对其上的金属粒子进行吸附。 |
申请公布号 |
CN101143365B |
申请公布日期 |
2011.03.16 |
申请号 |
CN200710181422.3 |
申请日期 |
2007.10.25 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
张正宙;李宜祥;杨嘉维 |
分类号 |
B08B7/00(2006.01)I;B08B11/04(2006.01)I;B03C1/02(2006.01)I |
主分类号 |
B08B7/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
潘培坤 |
主权项 |
一种基板清洁装置,用于清洁置于基板承载装置上的玻璃基板,该基板清洁装置包括:一连接件,其上形成一贯穿孔以及一开口,该贯穿孔贯穿于该连接件,且该开口位于该贯穿孔的径向上,并与该贯穿孔相连通;以及一磁吸清洁件,其穿设于该贯穿孔之中,且该磁吸清洁件至少部分暴露于该开口处,其中该开口朝下面对该基板承载装置的方向形成于连接件上,并且暴露于该开口处的该磁吸清洁件的至少一部分凸出于该开口。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |