发明名称 导电膜图案的形成方法、电光学装置和电子仪器
摘要 提供一种不受基体材料的材质左右、能将基体材料上的导电性薄膜很好地改质,形成导电膜图案的形成方法。对具有含导电性材料的导电性层(3),和含有将光能变换成热能的光热转换材料的光热转换层(2)的基体材料(1)照射激光光线,用所述光热转换材料烧制至少一部分所述导电性层(3)。
申请公布号 CN1592528B 申请公布日期 2011.03.16
申请号 CN200410074938.4 申请日期 2004.09.01
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 丰田直之
分类号 H01L51/52(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I 主分类号 H01L51/52(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 李香兰
主权项 一种导电膜图案的形成方法,其特征在于,具有:在含有将光能变换成热能的光热转换材料的基体材料上设置含导电性材料的导电性层的工序;对所述基体材料照射光,通过使用所述光热转换材料来烧制所述导电性层的至少一部分的工序,其中所述导电性层由将导电性微粒子分散到分散剂中的功能液构成。
地址 日本东京