| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCTION OF Ta SPUTTERING TARGET |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1591556(B1) |
申请公布日期 |
2011.03.16 |
| 申请号 |
EP20030811058 |
申请日期 |
2003.07.29 |
| 申请人 |
NIPPON MINING & METALS CO., LTD. |
发明人 |
ODA, KUNIHIRO |
| 分类号 |
C22F1/18;B21J1/02;C23C14/34;B21J5/00;C22F1/00 |
主分类号 |
C22F1/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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