发明名称 抗紫外线之反射件
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.03.11
申请号 TW094127631 申请日期 2005.08.12
申请人 奇菱科技股份有限公司 发明人 施希弦;吴国龙;张添杰;郑世楷;李茂松
分类号 C08L23/12 主分类号 C08L23/12
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种抗紫外线之反射件(anti-UV reflector),其至少包含:一聚合物基材,其中该聚合物基材系由聚碳酸酯制成;一聚丙烯层设于该聚合物基材上,其中该聚丙烯层另包含无机化合物粒子、抗紫外线成分(anti-UV ingredient)以及酸酐,其中该无机化合物系为由二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡、氧化镁、氧化锌及其混合物所组成之族群中选出,其中该抗紫外线成分,系为由苯并三唑(benzotriazole,BTA)、苯酮(benzophenone)、氰基丙烯酸酯(cyanoacrylate)、胺类(Amine type)化合物、受阻胺类(Hindered Amine type)化合物、水杨酸类(Salicyl type)化合物、金属镍(Nickel)螯合物(Complex)及其混合物所组成之族群中选出之紫外线吸收剂(UV absorber);以及一胶层,设于该聚合物基材与该聚丙烯层之间,其中该聚丙烯层吸收紫外线但不产生黄化现象。如申请专利范围第1项所述之抗紫外线之反射件,其中该聚合物基材另包含无机化合物粒子。如申请专利范围或第2项所述之抗紫外线之反射件,其中该无机化合物系为由二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡、氧化镁、氧化锌及其混合物所组成之族群中选出。一种抗紫外线之反射件,其至少包含:一聚合物基材,其中该聚合物基材系为由聚碳酸酯制成;以及一压克力树脂层设于该聚合物基材上,其中该压克力树脂层另包含无机化合物粒子以及抗紫外线成分(anti-UV ingredient),其中该无机化合物系为由二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡、氧化镁、氧化锌及其混合物所组成之族群中选出,其中该抗紫外线成分系为由苯并三唑(benzotriazole,BTA)、苯酮(benzophenone)、氰基丙烯酸酯(cyanoacrylate)、胺类(Amine type)化合物、受阻胺类(Hindered Amine type)化合物、水杨酸类(Salicyl type)化合物、金属镍(Nickel)螯合物(Complex)及其混合物所组成之族群中选出之紫外线吸收剂(UV absorber),其中该压克力层吸收紫外线但不产生黄化现象。如申请专利范围第4项所述之抗紫外线之反射件,其中该聚合物基材另包含无机化合物粒子。如申请专利范围第5项所述之抗紫外线之反射件,其中该无机化合物系为由二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡、氧化镁、氧化锌及其混合物所组成之族群中选出。一种抗紫外线之反射件,其至少包含:一聚合物基材,系由聚碳酸酯制成,包含无机化合物粒子;以及一保护层设于该聚合物基材上,其中该保护层系由聚酯、涂料树脂、氟碳树脂、矽氧树脂、丙烯酸树脂、醇酸树脂、聚尿(PU)树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂及其混合物所组成之族群中选出之材料制成,其可吸收紫外线但不产生黄化现象,其中该保护层另包含无机化合物粒子以及抗紫外线成分(anti-UV ingredient),其中该无机化合物系为由二氧化钛、碳酸钙、硫酸钡、氧化镁、氧化锌及其混合物所组成之族群中选出,其中该抗紫外线成分系为由苯并三唑(benzotriazole,BTA)、苯酮(benzophenone)、氰基丙烯酸酯(cyanoacrylate)、胺类(Amine type)化合物、受阻胺类(Hindered Amine type)化合物、水杨酸类(Salicyl type)化合物、金属镍(Nickel)螯合物(Complex)及其混合物所组成之族群中选出之紫外线吸收剂(UV absorber)。
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