| 主权项 |
一种用于抛光绕着第一旋转轴线以预定之第一旋转速率旋转之物品的抛光垫，其包含：(a)抛光层，其在操作上被设计成相对于该第一旋转轴线以一预定之速率移动，该抛光层包含：(i)边界，其位于临界半径之0.5至2倍处，该临界半径系以作为该物品之预定第一旋转速率与该抛光层之预定速率的函数的方式而计算得到，该边界具有第一侧及与该第一侧相对之第二侧；(ii)第一组槽，其位于该边界之该第一侧上且具有第一结构；及(iii)第二组槽，其位于该边界之该第二侧上且具有不同于该第一结构之第二结构。如申请专利范围第1项之抛光垫，其中该第一组槽中之该等槽之至少一些槽越过该边界而连接至该第二组槽之相应个别槽。如申请专利范围第1项之抛光垫，其中该抛光层之形状为圆形，并可以预定方向绕着第二旋转轴线旋转，且该抛光层之该预定速率系绕着该第二旋转轴线之预定的第二旋转速率。如申请专利范围第3项之抛光垫，其中该第一组槽紧邻该第二旋转轴线，且包含大体上与该预定方向相切之槽。如申请专利范围第3项之抛光垫，其中该第一组槽紧邻该第二旋转轴线，且包含相对于该抛光层大体上呈径向之槽。如申请专利范围第1项之抛光垫，其中该抛光层系长形，且该抛光层之该预定速率为线性速度。一种制造具有抛光层之抛光垫的方法，其用于抛光绕着第一旋转轴线以预定之第一旋转速率旋转之物品，而该抛光层相对于该第一旋转轴线以预定速率移动，该方法包含下列步骤：(a)将该抛光层上一边界之位置设定在临界半径之0.5至2倍处，该临界半径系以作为该物品之预定第一旋转速率与该抛光层之预定速率的函数之方式而计算得到；(b)于该边界之第一侧上将具第一结构之第一组槽设置于该抛光层；及(c)于该边界之与该第一侧相对之第二侧上设置具不同于该第一结构之第二结构之第二组槽。如申请专利范围第7项之方法，其进一步包括下列步骤：该第一组槽之至少一些槽越过该边界，连接至该第二组槽之相应个别槽。如申请专利范围第7项之方法，其中抛光媒介物之逆混合发生于该第一组槽内。如申请专利范围第9项之方法，其中选择该第一结构之步骤包括依据制程选择该第一结构，而该制程为抛光副产物系有益于抛光作业的类型中之一者。 |
