| 主权项 |
一种液状硬化性树脂组成物，其特征为：含有下述成分(A)至(F)；(A)分子内具有羟基的含氟聚合物(B)数平均粒子径为100nm以下，且折射率为1.50以上之1种或2种以上之金属氧化物粒子(以下，简称「(B)金属氧化物粒子」)(C)对(A)分子内具有羟基的含氟聚合物的溶解性高的1种或2种以上之溶剂(以下，简称「(C)速挥发溶剂」)(D)对(B)金属氧化物粒子的分散安定性高，且与(C)速挥发溶剂相溶性的1种或2种以上之溶剂(以下，简称「(D)迟挥发溶剂」)(E)硬化性化合物(F)热引发酸产生剂，且(C)速挥发溶剂之相对蒸发速度，系较(D)迟挥发剂之相对蒸发速度为大。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中(C)速挥发溶剂，系对(B)金属氧化物粒子的分散安定性低的1种或2种以上之溶剂，而(D)迟挥发溶剂，系对(A)分子内具有羟基的含氟聚合物的溶解性低的1种或2种以上之溶剂。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中(B)金属氧化物粒子，系以选自氧化钛、氧化锆、含有锑之氧化锡、含有锡之氧化铟、氧化铝、氧化铈、氧化锌、含有铝之氧化锌、氧化锡、含有锑之氧化锌以及含有铟之氧化锌、含有磷之氧化锡的1种或2种以上之金属氧化物作为主成分的粒子。如申请专利范围第3项之液状硬化性树脂组成物，其中(B)金属氧化物粒子，系以氧化钛作为主成分的粒子。如申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物，其中(B)金属氧化物粒子，系具有多层构造的金属氧化物粒子。一种硬化膜，其特征为使申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物硬化所制得，具有2层以上之多层构造。如申请专利范围第6项之硬化膜，其中构成该多层构造的各层，系高密度方式存在有(B)金属氧化物粒子的层或实质上不存在有(B)金属氧化物粒子的层，而至少一层，系高密度方式存在有(B)金属氧化物粒子的层。一种硬化膜之制造方法，其特征为：具有藉由申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物之加热、或藉由放射线之照射而使其硬化的步骤。一种层合体之制造方法，系基材，与在其上具有多层构造的层合体之制造方法，其特征为：于前述基材上或基材上所形成的层之上，涂布申请专利范围第1项之液状硬化性树脂组成物以形成涂膜，并从此1层涂膜蒸发溶剂，以形成2层以上之层。如申请专利范围第9项之层合体之制造方法，其中该2层以上之层之各层，系高密度方式存在有金属氧化物粒子的层或实质上不存在有金属氧化物粒子的层，而至少1层系高密度方式存在有金属氧化物粒子的层。如申请专利范围第10项之层合体之制造方法，其中该2层以上之层，系2层者。如申请专利范围第9项之层合体之制造方法，其中再藉由加热而使该2层以上之层硬化。如申请专利范围第9项之层合体之制造方法，其中层合体系光学用零件。如申请专利范围第9项之层合体之制造方法，其中层合体系反射防止膜。如申请专利范围第11项之层合体之制造方法，其中该层合体，系至少高折射率层及低折射率层经从靠近基材侧按此顺序层合于基材上的反射防止膜，而申请专利范围第11项所记载之2层，系由高折射率层及低折射率层所成。如申请专利范围第15项之层合体之制造方法，其中低折射率层在589nm的折射率为1.20至1.55，而高折射率层在589nm的折射率为1.50至2.20，且比低折射率层之折射率为高。如申请专利范围第11项之层合体之制造方法，其中该层合体，系至少中折射率层、高折射率层以及低折射率层经从靠近基材侧按此顺序层合于基材上的反射防止膜，而申请专利范围第11项所记载之2层，系由高折射率层及低折射率层所成。如申请专利范围第17项之层合体之制造方法，其中低折射率层在589nm的折射率为1.20至1.55，中折射率层在589nm的折射率为1.50至1.90，而比低折射率层之折射率为高，高折射率层在589nm的折射率为1.51至2.20，而比中折射率层之折射率为高。如申请专利范围第15项或第17项之层合体之制造方法，其中再于基板上形成硬质覆膜层及/或抗静电层。一种层合体，系依申请专利范围第9项之层合体之制造方法所制造者。 |
