| 主权项 |
一种蚀刻设备之反应槽装置的上电极，包含：一电极板，包括一电极本体，该电极本体底面穿设有多个气孔；及多个陶瓷管，与该等气孔连通地分别同轴塞装固定于该等气孔中。依据申请专利范围第1项所述之蚀刻设备之反应槽装置的上电极，其中，该等陶瓷管是分别塞装固定于该等气孔之下半部中。依据申请专利范围第1项所述之蚀刻设备之反应槽装置的上电极，其中，该等陶瓷管是完全遮蔽气孔内周缘地分别塞装固定于该等气孔中。依据申请专利范围第1、2或3项所述之蚀刻设备之反应槽装置的上电极，其中，该电极板还包括一被覆于电极本体底面之表面处理层。 |
