发明名称 BUJIA DE GENERACION DE PLASMA DE INDUCTANCIA INTEGRADA.
摘要 Bujía (110) que comprende: - dos electrodos (103, 106) de generación de plasma, o - un resonador serie (61) que presenta una frecuencia de resonancia superior a 1 MHz y que comprende: - un condensador (111) provisto de dos bornes, y - un devanado inductivo (112), estando el condensador y el devanado dispuestos en serie, estando los electrodos conectados a los bornes respectivos del condensador, caracterizada porque el citado resonador presenta además un factor de sobretensión comprendido entre 40 y 200.
申请公布号 ES2354155(T3) 申请公布日期 2011.03.10
申请号 ES20040292188T 申请日期 2004.09.13
申请人 RENAULT S.A.S. 发明人 AGNERAY, ANDRE;JAFFREZIC, XAVIER
分类号 H01T13/50;F02P23/04;H01T13/44 主分类号 H01T13/50
代理机构 代理人
主权项
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