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发明名称 DOPANT DIFFUSION SOLUTION, PASTE COMPOSITION FOR ELECTRODE, AND METHOD OF FORMING DOPING AREA
摘要 A dopant diffusion solution according to the embodiment includes an organic solvent and a compound including a group III dopant or a group V dopant.
申请公布号 WO2011028034(A2) 申请公布日期 2011.03.10
申请号 WO2010KR05957 申请日期 2010.09.02
申请人 LG INNOTEK CO., LTD.;PARK, JIN GYEONG;LEE, IN JAE;KIM, SOON GIL;EOM, JUN PHIL 发明人 PARK, JIN GYEONG;LEE, IN JAE;KIM, SOON GIL;EOM, JUN PHIL
分类号 H01B1/20;H01L31/042 主分类号 H01B1/20
代理机构 代理人
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