发明名称 Cu-Ni-Si系合金
摘要 本发明提供一种尽量不添加其它合金元素,并且兼具得到改善的电导率、强度、弯曲性及应力松弛特性的电子材料用Cu-Ni-Si系合金。在含有1.2~3.5质量%的Ni、浓度(质量%)为Ni浓度(质量%)的1/6~1/4的Si,其余部分由Cu及总量为0.05质量%以下的杂质组成的Cu-Ni-Si系合金中,可以通过控制固溶处理条件、时效处理条件及轧制加工率,并将晶粒的形状和无析出带的宽度调整至合适范围的方式,来提供一种具有55~62%IACS的电导率、550~700MPa的拉伸强度、180度贴合弯曲下不产生裂纹、150℃下加热1000小时时的应力松弛率在30%以下的铜合金条。
申请公布号 CN101512026B 申请公布日期 2011.03.09
申请号 CN200780032604.2 申请日期 2007.09.21
申请人 JX日矿日石金属株式会社 发明人 波多野隆绍
分类号 C22C9/06(2006.01)I;C22C9/04(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I;H01L23/50(2006.01)I 主分类号 C22C9/06(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张萍;孙秀武
主权项 Cu‑Ni‑Si系合金,其特征在于:含有1.2~3.5质量%的Ni、浓度为Ni浓度的1/6~1/4的Si,其余部分由Cu及总量为0.05质量%以下的杂质组成,所述浓度以质量%计;并且兼具以下特性:(A)电导率:55~62%IACS(B)拉伸强度:550~700MPa(C)弯曲性:180度贴合弯曲下不产生裂纹(D)耐应力松弛性:150℃下加热1000小时时的应力松弛率在30%以下;在与轧制面平行的截面的金相中,将与晶粒的轧制方向正交的方向的平均粒径设为a,将与轧制方向平行的方向的平均粒径设为b时,a=1~15μm,b/a=1.05~1.67,并且金相中的无析出带的平均宽度为10~100nm。
地址 日本东京都