| 发明名称 | 大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及核技术应用领域，特别涉及大型构件无损检测时，辐射源与探测器无刚性连接的情况下完成对中、定位的方法及其装置。本发明用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法的步骤如下：(a)将辐射源与探测器大致对中；(b)将对中遮挡图案旋转至遮挡位置；(c)成像后查看遮挡图案的位置；(d)调整辐射源至遮挡图案的位置在一定的成像误差内，完成对中。对应的装置包括对中定位板、遮挡图案和屏蔽准直器，其中遮挡图案通过对中定位板设置于屏蔽准直器前端。本发明实现了在大型、特大型构件的无损检测应用中辐射源与探测器的准确对中，并能计算出辐射源源点距探测器的距离，使之达到辐射成像的基本条件，完成检测。 | ||
| 申请公布号 | CN101329282B | 申请公布日期 | 2011.03.09 |
| 申请号 | CN200710117691.3 | 申请日期 | 2007.06.21 |
| 申请人 | 清华大学;同方威视技术股份有限公司 | 发明人 | 赵自然;林东;张东升;李元景;吴万龙;唐乐 |
| 分类号 | G01N23/04(2006.01)I;G01N23/02(2006.01)I;H05G1/02(2006.01)I | 主分类号 | G01N23/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 刘长威 |
| 主权项 | 一种用于大型构件无损检测时辐射源与探测器的对中方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(a)将辐射源与探测器大致对中；(b)将对中遮挡图案旋转至遮挡位置；(c)成像后查看遮挡图案的成像位置；(d)调整辐射源至遮挡图案的成像位置在一定的误差内，完成对中；对中遮挡图案为一可旋转移动的重金属矩形遮挡射线图案，其厚度为该金属在使用射线能量下的半值层厚度的1/5～2倍。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区清华大学 | ||