发明名称 溅射装置及其驱动方法以及使用该装置制造基板的方法
摘要 一种溅射装置包括基座以及多个靶器件。基板紧固地固定在基座上。靶器件是可旋转的并且设置为与基板的中心区域和基板中与中心区域相邻的外围区域相对。因为靶器件的数目少,可以减少溅射装置的相应的成本和尺寸。此外,因为靶器件旋转,可以形成更均匀的层并因而可以提高可靠性。
申请公布号 CN101092687B 申请公布日期 2011.03.09
申请号 CN200710107926.0 申请日期 2007.05.18
申请人 乐金显示有限公司;AVACO株式会社;LG电子株式会社 发明人 林泰贤;刘桓圭;尹炳汉
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;梁挥
主权项 一种溅射装置,包括:具有基板的基座;以及设置为与基板的中心区域和基板中与所述中心区域相邻的外围区域相对的多个靶器件,其中第一靶器件与所述中心区域相对,所述外围区域包括左、右、上和下区域,第二靶器件与左区域相对,第三靶器件与右区域相对,第四靶器件与上区域相对,并且第五靶器件与下区域相对,其中,第二至第五靶器件的旋转轴平行于基板,并且在第二和第三靶器件中纵向安装旋转轴,而在第四和第五靶器件中横向安装旋转轴。
地址 韩国首尔