发明名称 |
气浮式元件吸取装置 |
摘要 |
一种气浮式元件吸取装置,主要包括:一基座,其底面具有一开口朝下的腔室,且设有一自外侧贯通至腔室的穿孔;一引导元件,收容于该基座的腔室中,其凹设有一凹槽连通于该穿孔,且该凹槽壁上则穿设有至少一通孔,并于该基座与引导元件间形成导引通道,而使该凹槽、通孔与导引通道相通以形成入气通道;一保持座,设置在该基座底下,在该保持座与基座间形成出气通道与入气通道相通,且该保持座形成一向内渐缩的开口,且该开口内侧设有至少一沟槽与出气通道相通;当一气压导入该基座的穿孔时,可形成一气浮现象来带动电子元件上升位移,以达到一避免触碰电子元件的表面,而能不损伤材料。 |
申请公布号 |
CN201754668U |
申请公布日期 |
2011.03.02 |
申请号 |
CN201020273090.9 |
申请日期 |
2010.07.23 |
申请人 |
上利新科技股份有限公司 |
发明人 |
郭永聪 |
分类号 |
H05K13/04(2006.01)I;H05K13/02(2006.01)I |
主分类号 |
H05K13/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 |
代理人 |
孙皓晨 |
主权项 |
一种气浮式元件吸取装置,其特征在于,主要包括:一基座,其底面具有一开口朝下的腔室,且设有一自该基座外侧贯通至腔室的穿孔;一引导元件,收容于该基座的腔室中,该引导元件凹设有一凹槽连通于该穿孔,且该凹槽壁上则穿设有至少一通孔,并在该基座与引导元件之间形成导引通道,而使该凹槽、通孔与导引通道相通以形成入气通道;一保持座,设置在该基座底下,在该保持座与基座间形成出气通道与入气通道相通,且该保持座中央形成一向内渐缩的开口,且该开口内侧设有至少一沟槽与出气通道相通。 |
地址 |
中国台湾台北县 |