| 主权项 |
一种同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，包括：提供一基板；形成一黑色矩阵于该基板上，该黑色矩阵层定义出复数个次画素区；形成复数个彩色滤光片于该些次画素区；形成一透明电极层于该黑色矩阵与该些彩色滤光片上；形成一透明光阻层于该透明电极层上；以及以一半透型光罩对该透明光阻层进行一微影制程以同时得到复数个间隔物及复数个配向凸块；其中该透明光阻层为一负光阻，且该半透型光罩包括一透光区对应形成该些间隔物之该负光阻、一半透光区对应形成该些配向凸块之该负光阻、一遮罩区对应欲移除之该负光阻。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该黑色矩阵之材质包括金属铬或黑色感光树脂。如申请专利范围第2项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该黑色感光树脂之厚度约介于1-2微米，该金属铬之厚度约介于1000-3000埃。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该些彩色滤光片之厚度为约1-2.5微米。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该基板之组成为透明材质，系择自玻璃基板、塑胶基板、或玻璃基板黏附于塑胶基板所形成的基板。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该透明电极层之材质包括ITO、IZO、或SnO。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该透明电极层之厚度为约500-2000埃。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该些间隔物与该些配向凸块之高度比为约10：1-2：1。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该半透光区之透光率为约0.1-0.5。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该些配向凸块之高度为约1-1.5微米，宽度为约6-12微米。如申请专利范围第1项所述之同时形成间隔物与配向凸块于彩色滤光片基板之方法，其中该些间隔物位于该黑色矩阵上，且该些间隔物与该黑色矩阵之间夹设该透明电极层。一种多重区块垂直配向之液晶显示器用基板之制作方法，包括：提供一阵列基板；形成一透明负光阻层于该阵列基板上；以及进行一次曝光显影制程以一半透光型光罩图案化该透明负光阻层，同时形成复数个间隔物与配向凸块；其中该半透型光罩包括一透光区对应形成该些间隔物之该负光阻、一半透光区对应形成该些配向凸块之该负光阻、一遮罩区对应欲移除之该负光阻。如申请专利范围第12项所述之多重区块垂直配向之液晶显示器用基板之制作方法，其中该阵列基板包括TFT阵列基板，或COA基板。如申请专利范围第12项所述之多重区块垂直配向之液晶显示器用基板之制作方法，其中该些间隔物与该些配向凸块之高度比为约10：1-2：1。如申请专利范围第12项所述之多重区块垂直配向之液晶显示器用基板之制作方法，其中该半透光区之透光率为约0.1-0.5。如申请专利范围第12项所述之多重区块垂直配向之液晶显示器用基板之制作方法，其中该些配向凸块之高度为约1-1.5微米，宽度为约6-12微米。 |
