一种旱地甘薯西瓜立体栽培方法

摘要

本发明属于农作物栽培方法技术领域，具体涉及一种旱地甘薯西瓜立体栽培方法。本发明的目的是解决现有旱地甘薯西瓜栽培方法不合理、劳动强度大、产量低、土地利用率低等问题。本发明的技术方案为包括以下步骤：1)将土地在十月中旬至十月下旬深耕至20～25厘米；2)在三月中下旬，土壤水分含量为65～70％时按常规方法划行起垄，并在垄沟内按照20～25千克/亩施硝酸磷肥，垄沟两侧按照20～25千克/亩施硫酸钾肥，并覆盖微膜；3)四月上旬，在垄沟内按照40～50厘米的株距种植西瓜；4)四月下旬，在垄的上部按照23～26厘米的株距轧孔种植甘薯幼苗，按常规方法浇水、盖土。本发明具有产量高、劳动强度小、土地利用率高等优点。

主权项

一种旱地甘薯西瓜立体栽培方法，其特征是包括以下步骤：1)将土地在十月中旬至十月下旬深耕至20～25厘米；2)在三月中下旬，土壤水分含量为65～70％时按常规方法划行起垄，并在垄沟内按照20～25千克/亩施硝酸磷肥，垄沟两侧按照20～25千克/亩施硫酸钾肥，并覆盖微膜；3)四月上旬，在垄沟内按照40～50厘米的株距种植西瓜；4)四月下旬，在垄的上部按照23～26厘米的株距轧孔种植甘薯幼苗，按常规方法浇水、盖土。