| 发明名称 | 分解图案的方法、计算机可读介质、器件制造方法和掩模 | ||
| 摘要 | 一种将包含待在晶片上印制的特征的目标图案分解为多个图案的方法。所述方法包括步骤：(a)限定表示在待成像的特征之间的最小必需间隔的影响区域；(b)选择与目标图案的特征相关联的顶点；(c)确定另一特征的边缘是否位于与所述顶点相关的影响区域内；以及(d)如果另一特征的边缘位于所述影响区域内，则将所述另一特征分割为两个多边形。 | ||
| 申请公布号 | CN101241300B | 申请公布日期 | 2011.02.23 |
| 申请号 | CN200710305162.6 | 申请日期 | 2007.11.14 |
| 申请人 | ASML蒙片工具有限公司 | 发明人 | 罗伯特·索哈 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 一种用于将包含待印制到晶片上的特征的目标图案分解为多个图案的方法，所述方法包括步骤：(a)限定表示在待成像的特征之间的最小必需间隔的影响区域；(b)选择与所述目标图案的特征相关联的顶点；(c)从所述顶点延伸段，直至所述段与所述特征之一的边缘或顶点中的至少一个相交；(d)从所述段的中部以与所述影响区域相等的长度延伸射线；(e)确定从所述段的中部延伸的射线是否与另一边缘相交；以及(f)如果所述射线不与另一边缘相交，则忽略从所述段的中部延伸的所述射线，而如果所述射线与另一边缘相交，则进行以下步骤：(f1)将新的顶点置于所述射线与所述边缘相交的位置上的边缘上，(f2)从新放置的顶点继续以相同的方向延伸所述射线，直至其与另一边缘相交，并在所述射线和所述另一边缘的所述相交点处放置另外的新顶点，(f3)将两个新放置的顶点连接在一起，从而将所述特征分割为两个多边形，所述两个多边形共享由所述射线形成的边缘。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||