| 发明名称 | 真空蒸镀装置以及温度调节方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括：能够收容从外部搬入的被蒸镀体(B)的真空室(1)；设置在所述真空室(1)内并收容蒸镀材料(M)的坩埚(2)；加热所述坩埚(2)并使所述蒸镀材料(M)气化的加热源(3)；分散配置在坩埚(2)的底部(2c)并支承坩埚(2)，并且在坩埚(2)与真空室(1)的底部(1a)之间进行传热的多个支承部(5)。通过该真空蒸镀装置，能够实现温度分布的均一化，并能够降低材料的多余的填充。 | ||
| 申请公布号 | CN101981223A | 申请公布日期 | 2011.02.23 |
| 申请号 | CN200980111673.1 | 申请日期 | 2009.09.24 |
| 申请人 | 三菱重工业株式会社 | 发明人 | 平野竜也;小林敏郎 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 岳雪兰 |
| 主权项 | 一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：能够收容从外部搬入的被蒸镀体的真空室；设置在所述真空室内并收容蒸镀材料的坩埚；加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气化的加热源；分散配置在所述坩埚的底部并支承所述坩埚、并且在所述坩埚与所述真空室的底部之间进行传热的多个支承部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||