| 发明名称 | 一种等离子刻蚀残留物清洗液 | ||
| 摘要 | 一种等离子刻蚀残留物清洗液含有羟胺和/或其衍生物、溶剂、水、螯合剂、含羧基的聚合物与含颜料亲和基团的聚合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101981510A | 申请公布日期 | 2011.02.23 |
| 申请号 | CN200980111450.5 | 申请日期 | 2009.04.07 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 刘兵;彭洪修;于昊 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C11D1/83(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201203 中国上海市浦东张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||