发明名称 显示面板、彩色滤光片及其检测方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.02.21
申请号 TW096110336 申请日期 2007.03.26
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 王晓雯;郑胜文;廖烝贤
分类号 G02B5/20 主分类号 G02B5/20
代理机构 代理人 翁仁滉 台北市大同区长安西路45之1号2楼之3
主权项 一种彩色滤光片,包括红色、绿色及蓝色三种色阻,其中一第一暗态频谱a(λ):系当该彩色滤光片设置于偏光方向互为垂直(orthogonal)之两偏光片间,由该些偏光片下方施加一背光源,于该些偏光片上方量测而得;一第二暗态频谱b(λ):系当移除该彩色滤光片,留下两该偏光片与该背光源时量测而得;一漏光强度比值频谱I(λ):系为该第一与该第二暗态频谱之比值(a(λ)/b(λ));一第一漏光强度比值P1:系为该漏光强度比值频谱I(λ)中,在一第一波长区域之最大值,其中该第一波长区域系为该绿色色阻与蓝色色阻之漏光强度比值频谱叠加之波长区域;一第二漏光强度比值P2:系为该漏光强度比值频谱I(λ)中,在一第二波长区域之最大值,其中该第二波长区域系为该红色色阻之漏光强度比值频谱所处之波长区域;一第一平均比值P1,avg:系为邻近该第一漏光强度比值P1之前后各N1个漏光强度比值的平均值;及一第二平均比值P2,avg:系为邻近该第二漏光强度比值P2之前后各N2个漏光强度比值的平均值,其中,该彩色滤光片满足下列条件:P1<1,P2<1且0.74@sIMGCHAR!d10041.TIF@eIMG!P1,avg/P2,avg@sIMGCHAR!d10042.TIF@eIMG!2。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中N1≠N2。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中N1=N2=5。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该第一平均比值P1,avg,系为邻近该第一漏光强度比值P1之波长λ1,max前后共11nm波长的漏光强度比值之平均值;该第二平均比值P2,avg,系为邻近该第二漏光强度比值P2之波长λ2,max前后共11nm波长的漏光强度比值之平均值,该平均值Pn,avg为:@sIMGTIF!d10008.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该第一波长区域系位于460nm与510nm之间,该第二波长区域系位于580 nm与650nm之间。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该彩色滤光片之暗态色偏半径@sIMGCHAR!d10043.TIF@eIMG!,其中(xp,yp)系为该彩色滤光片设置于偏光方向互为平行之两该偏光片间,并由该些偏光片下方施加该背光源时,该彩色滤光片的亮态座标;(xc,yc)系为该彩色滤光片设置于偏光方向互为垂直(orthogonal)之两该偏光片间,并由该些偏光片下方施加该背光源时,该彩色滤光片的暗态座标。如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片,其中该彩色滤光片之对比值大于8000,其中该对比值系为该彩色滤光片的亮态亮度与暗态亮度之比值。一种具有红色、绿色及蓝色三种色阻之彩色滤光片的检测方法,包括:设置一彩色滤光片于偏光方向互为垂直(orthogonal)之两偏光片间;提供一背光源于该些偏光片下方;由该些偏光片上方量测第一暗态频谱a(λ);移除该彩色滤光片;由该些偏光片上方量测第二暗态频谱b(λ),其中漏光强度比值频谱I(λ):系为该第一与该第二暗态频谱的比值(a(λ)/b(λ));量测一第一漏光强度比值P1:该第一漏光强度比值P1系为该漏光强度比值频谱I(λ)中,在第一波长区域之最大值,其中该第一波长区域系为该绿色色阻与蓝色色阻之漏光强度比值频谱叠加之波长区域;量测一第二漏光强度比值P2:该第二漏光强度比值P2系为该漏光强度比值频谱I(λ)中,在第二波长区域之最大值,其中该该第二波长区域系为红色色阻之漏光强度比值频谱所处之波长区域;计算一第一平均比值P1,avg:该第一平均比值P1,avg系为邻近该第一漏光强度比值P1之前后各N1个漏光强度比值的平均值;计算一第二平均比值P2,avg:该第二平均比值P2,avg系为邻近该第二漏光强度比值P2之前后各N2个漏光强度比值的平均值;以及判定该彩色滤光片是否满足P1<1,P2<1且0.74@sIMGCHAR!d10044.TIF@eIMG!P1,avg/P2,avg@sIMGCHAR!d10045.TIF@eIMG!2之条件。如申请专利范围第8项所述之检测方法,其中N1≠N2。如申请专利范围第8项所述之检测方法,更包括:于计算该第一平均比值P1,avg之步骤前量测该第一漏光强度比值P1前后各5个漏光强度比值;以及于计算该第二平均比值P2,avg之步骤前量测该第二漏光强度比值P2前后各5个漏光强度比值。如申请专利范围第8项所述之检测方法,更包括:于计算该第一平均比值P1,avg之步骤前量测该第一漏光强度比值P1之波长λ1,max前后共11nm波长的漏光强度比值;以及于计算该第二平均比值P2,avg之步骤前量测该第二漏光强度比值P2之波长λ2,max前后共11nm波长的漏光强度比值。如申请专利范围第8项所述之检测方法,其中由该些偏光片上方量测第二暗态频谱b(λ)之步骤中,该第一波长区域系位于460nm与510nm之间,该第二波长区域系位于580nm与650nm之间。一种显示面板,系包含申请专利范围第1项所述之彩色滤光片。如申请专利范围第13项所述之显示面板,其中N1≠N2。如申请专利范围第13项所述之显示面板,其中N1=N2=5。如申请专利范围第13项所述之显示面板,其中该第一平均比值P1,avg,系为邻近该第一漏光强度比值P1之波长λ1,max前后共11nm波长的漏光强度比值之平均值;该第二平均比值P2,avg,系为邻近该第二漏光强度比值P2之波长λ2,max前后共11nm波长的漏光强度比值之平均值,该平均值Pn,avg为:@sIMGTIF!d10009.TIF@eIMG!如申请专利范围第13项所述之显示面板,其中该第一波长区域系位于460nm与510nm之间,该第二波长区域系位于580 nm与650nm之间。如申请专利范围第13项所述之显示面板,其中该彩色滤光片之暗态色偏半径@sIMGCHAR!d10046.TIF@eIMG!,其中(xp,yp)系为该彩色滤光片设置于偏光方向互为平行之两该偏光片间,并由该些偏光片下方施加该背光源时,该彩色滤光片的亮态座标;(xc,yc)系为该彩色滤光片设置于偏光方向互为垂直(orthogonal)之两该偏光片间,并由该些偏光片下方施加该背光源时,该彩色滤光片的暗态座标。如申请专利范围第13项所述之显示面板,其中该彩色滤光片之对比值大于8000,其中该对比值系为该彩色滤光片的亮态亮度与暗态亮度之比值。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号