| 主权项 |
一种光学可变结构，至少包含：一光学可变浮雕，其浮刻于一聚合物基材或一可浮刻聚合物层上；及位在该光学可变浮雕上的一液体分散物涂层，该液体分散物涂层包含在其制造期间固着于多个光学强化粒子的一数量的残留聚合物，且该等多个光学强化粒子具有一折射率与该聚合物基材或该可浮刻聚合物层的折射率相差介于±0.2的一最小值，该数量的残留聚合物供以将该等多个光学强化粒子黏着于该聚合物基材。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该聚合物基材或该可浮刻聚合物层包括至少一个预定部分，且该液体分散物涂层被选择性地施加至该至少一个预定部分。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该等多个光学强化粒子之各者的一尺寸系介于大约10-13微米之间。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该液体分散物涂层在该光学可变浮雕上提供一固定厚度之该等多个光学强化粒子。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该光学可变浮雕系为一全像图形及一绕射光栅之至少一者。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该液体分散物更包含一额外的聚合物，其黏着剂对薄片之一定量(binder to flake ration)系少于0.01。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该多个光学强化粒子至少包括铝、铬、铟、铋、银、金、氧化铝、一氧化矽、二氧化矽及硫化锌的其中之一。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该液体分散物涂层具有一适当黏性以藉由一印刷技术施加至该光学可变浮雕上。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该等多个光学强化粒子系为多个金属薄片。如申请专利范围第9项所述之光学可变结构，其中该液体分散物涂层包含一溶剂。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，更包含施加于该等多个光学强化粒子上的一保护层。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，更包含施加于该等多个光学强化粒子上的一黏性层。如申请专利范围第1项所述之光学可变结构，其中该液体分散物涂层包含一溶剂。一种光学可变装置，至少包含：一光学可变浮雕，其浮刻于一聚合物基材或一可浮刻聚合物层上；及多个光学强化粒子，其位在施加于该光学可变浮雕上的一薄膜涂层中，且藉由一残留聚合物固着于该光学可变浮雕，该残留聚合物在其制造期间固着于该等多个光学强化粒子，该薄膜涂层具有一厚度介于10-30奈米的一范围之间或此范围的数倍，在该薄膜涂层中的该等多个光学强化粒子之各者的一尺寸系介于10-13微米之间。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，其中该聚合物基材或该可浮刻层包括至少一个预定部分，且该薄膜涂层被选择性地施加至该至少一个预定部分。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，其中该等多个光学强化粒子系为多个金属粒子。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，其中该残留聚合物的该数量系足够将该等多个光学强化粒子固着于该光学可变浮雕。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，其中该光学可变浮雕系为一全像图形及一绕射光栅之至少一者。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，其中该等多个光学强化粒子至少包含铝、铬、铟、铋、银、金、氧化铝、一氧化矽、二氧化矽及硫化锌的其中之一。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，其中该聚合物基材或该可浮刻层的一第一折射率及该等多个光学强化粒子的一第二折射率之间的差系大于±0.2。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，更包括施加于具有该等多个光学强化粒子的该薄膜涂层上的一保护层。如申请专利范围第14项所述之光学可变装置，更包括施加于具有该等多个光学强化粒子的该薄膜涂层上的一黏性层。一种强化一光学可变结构的方法，其包含以下步骤：提供一光学可变浮雕浮刻于一聚合物基材或一可浮刻聚合物层上；及藉由施加一液体涂层至该光学可变浮雕，在该光学可变层上形成具有一厚度介于10-30奈米的一范围之间或此范围的数倍的一薄膜，该液体涂层包含一数量的残留聚合物，在其制造期间固着于多个光学强化粒子，且该等多个光学强化粒子的一尺寸系介于10-13微米之间，该等多个光学强化粒子具有一折射率与该聚合物基材或该可浮刻聚合物层的折射率相差介于±0.2的一最小值，该数量的残留聚合物供以将该等多个光学强化粒子黏着于该聚合物基材。如申请专利范围第23项所述之方法，其中该施加该液体涂层的步骤系选择性地施加该液体涂层至小于该基材整体的一预定部分。如申请专利范围第23项所述之方法，其中该施加该液体涂层的步骤系使用一印刷技术。如申请专利范围第23项所述之方法，其中该施加该液体涂层的步骤包括以下步骤：选择该液体涂层，使得该等多个光学强化粒子系为多个金属粒子。如申请专利范围第23项所述之方法，其中该液体涂层更包含一额外的聚合物，其黏着剂对薄片之一定量系少于0.01。 |
