一种光刻装置和光刻方法

摘要

一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。

主权项

一种光刻装置，用于在待刻物件表面形成微纳结构，包括光源、光学系统和自动调焦系统，其特征在于：该光学系统包括光阑、部分反射光学器件、成像透镜组和干涉光学头，其中所述成像透镜组包括第一透镜组和第二透镜组，所述光阑位于该第一透镜组的前焦面，所述待刻物件表面位于该第二透镜组的后焦面，所述干涉光学头包括分束器件和合束棱镜，以及与该成像透镜组共有的第二透镜组，该分束器件将该第二透镜组传出的光线分成多束光线，并经该合束棱镜汇聚后，在该待刻物件表面形成干涉图像；该自动调焦系统包括检测装置，控制装置及第一驱动装置，其中所述检测装置通过该部分反射光学器件，与该光阑共轭地位于该第一透镜组的前焦面，并由光路可逆关系，接收来自待刻物件表面的成像信息，所述控制装置连接该检测装置，并根据该检测装置接收到的成像信息，生成一调节信号，所述第一驱动装置接收上述调节信号，并驱动该干涉光学头在Z轴上运动。