一种真空磁控镀膜工艺

摘要

本发明公开了一种真空磁控镀膜工艺，本发明利用多弧离子磁控镀膜机进行镀膜，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果；本发明工艺简单，易于实施，成本低，能够用一种单纯的靶材而达到五颜六色的镀膜效果。

主权项

一种真空磁控镀膜工艺，其特征在于：包括以下步骤：选用多弧离子磁控镀膜机，选用金属靶材进行镀膜；将产品放入多弧离子磁控镀膜机的真空室；多弧离子磁控镀膜机对真空室进行抽真空，在真空室的真空度达到10×10‑2Pa～2×10‑2Pa后，关闭光栅阀；向真空室充入至少一种放电介质气体，使真空室的真空度达到1～5Pa；进行镀膜，镀膜过程中通过调节充入到真空室内的放电介质气体的成分、比例或流量而使同一种金属靶材镀覆在产品表面的镀膜具有不同的色彩效果；镀膜时间为10～50分钟；完成镀膜，取出产品。