曝光装置及元件制造方法

摘要

本发明的曝光装置，具备配置成与基板表面相对向、与基板表面之间形成液浸空间的第1构件，及吸收存在于基板表面的液体的第2构件。第2构件与基板的距离小于第1构件与基板的距离。

主权项

一种曝光装置，其将曝光用光照射至基板以使该基板曝光，所述曝光装置具备：第1构件，其具有配置成与所述基板表面相对向的第1液体回收口，与所述基板表面之间形成液浸空间；多个板状第2构件，其相对所述曝光用光的光路空间设于所述第1液体回收口的外侧，吸收存在于所述基板表面的液体，此第2构件与所述基板的距离小于所述第1构件与所述基板的距离；以及第2液体回收口，其配置于所述第2构件附近，用以回收所述第2构件所吸收的液体。