发明名称 |
成像设备 |
摘要 |
一种成像设备,包括:图像承载构件;显影剂运载构件,能够与所述图像承载构件接触,用于将显影剂运载到显影位置以用显影剂使形成在所述图像承载构件上的静电图像显影;供应构件,用于给所述显影剂运载构件供应显影剂,其中所述显影剂运载构件的圆周速度不小于所述图像承载构件的圆周速度的1.05倍并且不大于其1.20倍,算术平均粗糙度Ra不小于显影剂的体均粒度的0.20倍并且不大于其0.33倍,施加在所述供应构件上的电位与施加在所述显影剂运载构件上的电位不同,更接近显影剂的正常电荷极性的较大电位。 |
申请公布号 |
CN101339389B |
申请公布日期 |
2011.02.16 |
申请号 |
CN200810128087.5 |
申请日期 |
2006.11.01 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
远藤理惠;森谷修司;境泽胜弘;高桥宪生 |
分类号 |
G03G15/08(2006.01)I;G03G9/08(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
一种成像设备,包括:图像承载构件;显影剂运载构件,能够与所述图像承载构件接触,用于将显影剂运载到显影位置,用显影剂使形成在所述图像承载构件上的静电图像显影;供应构件,用于给所述显影剂运载构件供应显影剂,其中,所述显影剂运载构件的圆周速度不小于所述图像承载构件的圆周速度的1.05倍并且不大于其1.20倍,算术平均粗糙度Ra不小于显影剂的体均粒度的0.20倍并且不大于其0.33倍,施加在所述供应构件上的电位与施加在所述显影剂运载构件上的电位不同,更接近显影剂的正常电荷极性的较大电位,包含在显影剂中的调色剂颗粒的形状系数SF‑1不小于100并且不大于160,其形状系数8F‑2不小于100并且不大于140,所述形状系数SF‑1和SF‑2通过以下等式来限定:SF‑1={(绝对最大长度)2/调色剂颗粒的投影面积}×(π/4)×100;SF‑2={(圆周长度)2/调色剂颗粒的投影面积}×{1/(4π)}×100,所述显影剂运载构件压入到所述图像承载构件中的深度不小于10μm并且不大于50μm。 |
地址 |
日本东京都 |