化学机械抛光心轴装置

摘要

本发明提供了一种化学机械抛光心轴装置，属于化学机械抛光设备技术领域。包括抛光心轴自转机构，最主要特征是转塔机构通过四连杆升降机构和抛光主轴自转机构相连，并设有硅片吸附机构。本发明可以保证在心轴升降过程中抛光头与抛光台一直垂直，具有结构简单、心轴力易于控制、加工精度高、工作效率高、使用方便的特点；其用途广，尤其适用于硅片化学机械抛光设备上，也可用于其它具有与CMP相似工艺要求的半导体材料或其它类型的材料的加工半设备上。

主权项

一种化学机械抛光心轴装置，包括抛光心轴自转机构(2)，其特征在于设有转塔机构(3)，转塔机构(3)通过抛光主轴四连杆升降机构和抛光主轴自转机构(2)相连，并设有硅片吸附机构。