ULSI铜材料抛光后表面清洗方法

摘要

本发明涉及一种ULSI铜材料抛光后表面清洗方法，具体步骤如下：制备清洗液，按重量％计：非离子型表面活性剂1-4％、FA/OII型螯合剂0.5-3％、FA/OII型阻蚀剂0.1-5％、余量去离子水；混合搅拌均匀后制备成pH值为7.4-8.2水溶性表面清洗液；使用步骤(1)制备的清洗液对碱性化学机械抛光后的铜材料在2000Pa-3000Pa的低压力、1000-5000ml/min的流量条件下进行抛光清洗，抛光清洗时间至少为0.5-2分钟，以使铜材料表面洁净。采用该清洗方法有益效果是：清洁分布不均的抛光液被迅速冲走，可获得洁净、完美的抛光表面。该方法操作简单，不需添加其它设备，成本低、效率高、无污染，可明显改善器件性能，提高成品率。

主权项

一种ULSI铜材料抛光后表面清洗方法，其特征在于：具体实施步骤如下，以下按重量％计：(1)制备清洗液：将表面活性剂1‑4％、FA/OII型螯合剂0.5‑3％、FA/OII型阻蚀剂0.1‑5％、余量去离子水，混合搅拌均匀后制备成pH值为7.4‑8.2的水溶性表面清洗液；(2)使用步骤(1)中制备的清洗液对碱性化学机械抛光后的铜材料在2000Pa‑3000Pa低压力下、1000‑5000ml/min的大流量条件下进行抛光清洗，抛光清洗时间0.5‑2分钟。