一种激光与酸刻蚀结合的制绒工艺

摘要

本发明涉及一种激光与酸刻蚀结合的制绒工艺，其工艺步骤如下：首先在硅片表面形成掩膜，然后利用激光在硅片表面均匀开孔，孔间隔5～10微米，孔径3～5微米，孔打好后硅片放置在HF和HNO3的混合溶液中进行刻蚀，利用掩膜与酸反应的时间差在小孔处钻蚀，硅片表面形成均匀的绒面。本发明的制绒工艺对单晶或多晶硅片都适合，可以弥补多晶酸制绒反射率高的缺陷。而且利用本发明的工艺完成的绒面，因为均匀性好，故光吸收效果较传统工艺有明显提升，绒面反射率较低。

主权项

一种激光与酸刻蚀结合的制绒工艺，其特征在于：其工艺步骤如下：首先在硅片表面形成掩膜，然后利用激光在硅片表面均匀开孔，孔间隔5～10微米，孔径3～5微米，孔打好后硅片放置在HF和HNO3的混合溶液中进行刻蚀，利用掩膜与酸反应的时间差在小孔处钻蚀，硅片表面形成均匀的绒面。