发明名称 光学膜厚测量控制系统
摘要 本实用新型为光学膜厚测量控制系统,解决已有系统宽光谱测量光在传输时发生色散,信号幅度小,测量精度差,设备成本高的问题。光源经反射系统汇聚到光调制器,输出的调制频率电信号作为光学膜厚测试仪的参考信号,发射光源耦合器的输入接到第一光纤,有接收光源耦合器B的输出光经第二光纤到单色仪的入射狭缝,有接收光源耦合器A的输出光经第三光纤到单色仪的入射狭缝,真空室有比较片,单色仪的光栅的转动装置控制端接工控机的输出端,单色仪的出射狭缝经光纤分别接光电倍增管探测器或硫化铅探测器的入射端,输出的电信号作为光学膜厚测试仪的主信号,光学膜厚测试仪的单片机从串口输出信号到工控机的输入端,工控机的另一输出端与镀膜系统连接。
申请公布号 CN201748901U 申请公布日期 2011.02.16
申请号 CN200920298516.3 申请日期 2009.12.25
申请人 成都南光机器有限公司 发明人 魏扬;张博;李剑辉;谢亮;李方;靳毅;薛尚清
分类号 G01B11/06(2006.01)I 主分类号 G01B11/06(2006.01)I
代理机构 成都立信专利事务所有限公司 51100 代理人 冯忠亮
主权项 光学膜厚测量控制系统,其特征在于调制光源(4)内有氚灯或/和溴钨灯作为光源,如两者都有经光源切换器(13)选择其一,光源经反射系统汇聚到光调制器(14),光调制器(14)为机械调制器,输出的光经光纤接头通过第一光钎(6)传输,输出的调制频率电信号作为光学膜厚测试仪的参考信号,经处理电路到逻辑可编程器件,真空室(12)的一侧壁上有发射光源耦合器(2)的输入接到第一光纤(6),有接收光源耦合器B(4)的输出光经第二光纤(7)到单色仪(9)的入射狭缝,真空室(12)的相对侧壁上有接收光源耦合器A(3)的输出光经第三光纤(8)到单色仪(9)的入射狭缝,真空室(12)有比较片(5),单色仪(9)的光栅的转动装置控制端接工控机(17)的输出端,单色仪(9)的出射狭缝经光纤分别接光电倍增管探测器(10)或硫化铅探测器(11)的入射端,光电倍增管探测器(10)和硫化铅探测器(11)输出的电信号作为光学膜厚测试仪的主信号,光学膜厚测试仪的单片机从串口输出信号到工控机(17)的输入端,工控机的另一输出端与镀膜系统连接。
地址 610100 四川省成都市成都经济技术开发区龙泉星光西路115号