发明名称 |
用于具有冷却构件的皮肤处理设备的插接站 |
摘要 |
本发明涉及一种用于皮肤处理设备(30)的插接站(10),该皮肤处理设备具有冷却构件(32)。根据本发明,该插接站包括:排放器(18),用于降低冷却构件内部的压力;以及用于将冷却构件的内部连接到吸附剂(24)的装置(28)。吸附剂优选地包括沸石。本发明还涉及一种皮肤处理设备(30),具体为脱毛器,该设备包括用于容纳冷却剂(34,36)的冷却构件(32)。根据本发明,皮肤处理设备包括用于将冷却构件连接到如上文提到的插接站(10)的装置(28)。冷却剂优选为水或者水合溶液。 |
申请公布号 |
CN101978228A |
申请公布日期 |
2011.02.16 |
申请号 |
CN200980110222.6 |
申请日期 |
2009.03.19 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
M·斯拉德斯克 |
分类号 |
F25B17/08(2006.01)I;A45D26/00(2006.01)I |
主分类号 |
F25B17/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
吴立明 |
主权项 |
一种用于皮肤处理设备(30)的插接站(10),特别是用于脱毛器的插接站,所述皮肤处理设备具有用于容纳冷却剂的冷却构件(32),所述插接站包括:‑排放器(18),用于降低所述皮肤处理设备的冷却构件(32)内部的压力,以及‑用于将用于容纳所述冷却剂的冷却构件的内部连接到吸附剂(24)的装置(28)。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬市 |