具有受限于以均等优先湿润两嵌段的上界面的嵌段共聚物膜的热退火

摘要

本发明提供使用自我组装嵌段共聚物以制造亚光刻纳米级微结构的方法、和自所述方法形成的膜及装置。

主权项

一种在衬底上形成纳米结构聚合物材料的方法，其包括：在所述衬底上的一材料层中的沟槽内形成圆柱状嵌段共聚物材料，所述沟槽具有中性湿润底面、对所述嵌段共聚物的次要嵌段呈优先湿润的相对侧壁和端部；和在对任一嵌段呈非优先的溶剂蒸气中和高于所述嵌段共聚物材料的玻璃转变温度(Tg)的温度下，对所述嵌段共聚物材料实施退火；其中，所述嵌段共聚物材料在所述嵌段共聚物的第二嵌段基质内自我组装成所述嵌段共聚物的第一嵌段的圆柱形结构域，所述自我组装嵌段共聚物材料具有一厚度，且所述圆柱形聚合物结构域垂直定向于所述沟槽底面并沿所述沟槽长度穿过所述自我组装嵌段共聚物材料的所述厚度呈单一阵列延伸。