发明名称 雾化法制备低氧低松比铜基粉末的方法
摘要 本发明公开了一种雾化法制备低氧低松比铜基粉末的方法,它是对金属铜熔化为铜液后进行雾化,再经吸滤制得铜基粉末,其特征是所述雾化过程中位于铜液下方的喷嘴有二个,且位于同一竖直直线上,构成双焦点,喷孔的直径为1.2~1.5毫米,雾化顶角的角度分别为28~32度和18~22度。本发明生产出的铜粉,松比低,含氧量低,粉末冶金性能好。
申请公布号 CN101972854A 申请公布日期 2011.02.16
申请号 CN201010538288.X 申请日期 2010.11.09
申请人 铜陵铜基粉体科技有限公司 发明人 陆道昌
分类号 B22F9/08(2006.01)I 主分类号 B22F9/08(2006.01)I
代理机构 铜陵市天成专利事务所 34105 代理人 程霏
主权项 雾化法制备低氧低松比铜基粉末的方法,它是对金属铜熔化为铜液后进行雾化,再经吸滤制得铜基粉末,其特征是所述雾化过程中位于铜液下方的喷嘴有二个,且位于同一竖直直线上,构成双焦点,喷孔的直径为1.2~1.5毫米,雾化顶角的角度分别为28~32度和18~22度。
地址 244000 安徽省铜陵市经济技术开发区科大铜陵创业园