| 发明名称 | 等离子体室中的可调式接地平面 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种设备及方法，用于控制等离子体腔室中的等离子体放电的强度及分布。在一实施例中，成形电极嵌入基板支撑件中，以在所述腔室内提供具有径向及轴向分量的电场。在另一实施例中，用绝缘体将喷头组件的面板电极划分为多个区域，而能将不同电压施加至不同区域。此外，一或更多个电极可嵌入所述腔室侧壁中。 | ||
| 申请公布号 | CN101978474A | 申请公布日期 | 2011.02.16 |
| 申请号 | CN200980109820.1 | 申请日期 | 2009.01.26 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 卡希克·贾纳基拉曼;托马斯·诺瓦克;胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯;马克·A·福多尔;戴尔·R·杜波依斯;阿米特·班塞尔;穆罕默德·阿尤布;埃勒·Y·朱科;维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南;希姆·M·萨德 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01)I;H01L21/26(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I;H05H1/34(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/205(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;王金宝 |
| 主权项 | 一种用于处理基板的设备，其包含：基板支撑件；一或更多个电极，耦合至所述基板支撑件；喷头组件，其具有面板，所述面板相对于所述基板支撑件；及一或更多个接地组件，其与所述基板支撑件径向分离，其中基板支撑件及面板共同界定处理空间，且所述一或更多个电极用于在所述处理空间内产生具有轴向及径向分量的可调整电场。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||