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发明名称 Photoresist residue removing liquid composition
摘要
申请公布号 EP1318432(B1) 申请公布日期 2011.02.16
申请号 EP20020026936 申请日期 2002.12.04
申请人 KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA 发明人 NORIO, ISHIKAWA;TAKUO OOWADA
分类号 G03F7/42;C11D7/26;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/308 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
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