发明名称 抛光机的下抛光盘
摘要 本发明涉及硅片研磨机或抛光机的结构,尤其涉及硅片研磨机或抛光机下抛光盘的结构。一种抛光机的下抛光盘,包括有下盘工作盘(7),其主要特点在于还包括有在下盘工作盘(7)的下方设有下盘基盘(9),下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间形成冷却腔(3),在下盘基盘(9)上设有进水口(8)和出水口(5),分别与冷却腔(3)连通。本发明的优点是特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径,只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出,确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却,及时带走因加工而产生的热量,对抛盘起到了强制冷却的作用,较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统,实现了抛盘温度的精密控制。
申请公布号 CN101972998A 申请公布日期 2011.02.16
申请号 CN201010270760.6 申请日期 2010.08.30
申请人 兰州瑞德实业集团有限公司 发明人 金万斌;李方俊;梁春
分类号 B24D13/14(2006.01)I;B24D13/18(2006.01)I 主分类号 B24D13/14(2006.01)I
代理机构 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 代理人 张真
主权项 一种抛光机的下抛光盘,包括有下盘工作盘(7),其特征在于,还包括有在下盘工作盘(7)的下方设有下盘基盘(9),下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间设有冷却腔(3),在下盘基盘(9)上设有进水口(8)和出水口(5),所述的进水口(8)和出水口(5)分别与冷却腔(3)连通。
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