含硅I-线紫外正性光刻胶及其成膜树脂

摘要

一种含硅I-线紫外正性光刻胶及其成膜树脂，主要由10～30份的酚醛树脂、1～10份的含硅共聚物成膜树脂、5～20份的重氮萘醌类光敏化合物、30～85份溶剂以及少量其他添加剂如正丁胺和表面活性剂作为原料配制，然后经过5微米，1微米和0.2微米的过滤器过滤而得。本发明使用含硅的聚对羟基苯乙烯(PHS)共聚物成膜树脂及其应用于紫外I-线波段(365nm)曝光的正性光刻胶，有效提高了传统的以酚醛树脂为基础的成膜剂及光刻胶与基材硅片的粘附性，进一步提高光刻胶的耐热性改进耐刻蚀性能，改进光刻工艺，以获得更好的图形，并提高分辨率。

主权项

1.一种成膜树脂，其特征在于：所述成膜树脂由酚醛树脂和含硅共聚物成膜树脂两部分组成；所述酚醛树脂是由符合通式(I)、(II)和(III)中的至少一种甲基苯酚与甲醛经缩聚反应而得，其平均分子量为2000～15000；式中：R₁为CH₃；所述含硅共聚物成膜树脂由符合化学通式(IV)的单体、符合化学通式(V)的单体以及符合化学通式(VI)的单体在自由基引发剂存在的条件下经共聚反应而得，其平均分子量为5000～15000；式中：R₂是H或CH₃；R₃是碳原子数为1～20的烷基；R₄是碳原子数为1～20的烷基；R₅是OH、碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为1～20的烷氧基；n＝1～5；式中：R₆是H或CH₃；R₇是H、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为3～8的环烷基或碳原子数为1～20的羟基烷基；式中：R₈是H、OH、OCH₃或OCOCH₃。