| 发明名称 | 含溴苯并噻唑类光敏剂及合成与应用 | ||
| 摘要 | 含溴苯并噻唑类光敏剂及合成与应用，属于有机染料领域。其化合物的典型化学结构通式如下：<img file="201010281711.2_ab_0.GIF" wi="78" he="155" />其中分子结构式中R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>、R<sub>5</sub>代表溴原子或氢原子基团，且其中至少一个为溴原子基团。将溴代苯甲基磷酸二乙酯与2-甲醛苯并噻唑在碱性条件下反应，制备含溴苯并噻唑光敏剂，在近紫外和可见光照射下能够敏化产生单重态氧。 | ||
| 申请公布号 | CN101973958A | 申请公布日期 | 2011.02.16 |
| 申请号 | CN201010281711.2 | 申请日期 | 2010.09.15 |
| 申请人 | 重庆大学 | 发明人 | 高放;刘光华;李红茹;张胜涛;柳猛;牛兰颖 |
| 分类号 | C07D277/64(2006.01)I;C01B13/02(2006.01)I;C07C47/54(2006.01)I;C07C45/28(2006.01)I | 主分类号 | C07D277/64(2006.01)I |
| 代理机构 | 重庆大学专利中心 50201 | 代理人 | 郭吉安 |
| 主权项 | 1.一种含溴苯并噻唑类光敏剂，其化合物的典型化学结构通式为：<img file="FSA00000269641600011.GIF" wi="275" he="539" />其中R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>、R<sub>5</sub>代表溴原子或氢原子基团，且其中至少一个为溴原子基团。 | ||
| 地址 | 400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号 | ||