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Die Erfindung betrifft einen Flansch 4 für einen CVD-Reaktor 1, an dem eine Kamera, insbesondere eine Wärmebildkamera 10, mittelseiner Befestigungsvorrichtung 5 angebracht ist, wobei die Kamera so ausrichtbar ist, dass sie mindestens eine der sich in dem CVD-Reaktor 1 befindenden Siliziumstangen 15 erfasst. Außerdem betrifft die Erfindung eine Verwendung einer Kamera, insbesondere einer Wärmebildkamera 10, zur Bestimmung des Durchmessers D von Siliziumstangen 15 während des Abscheideprozesses von Reinsilizium bei der Durchführung eines CVD-Verfahrens. Darüber hinaus betrifft die Erfindung ein CVD-Verfahren zur Erzeugung von Siliziumstangen 15, bei dem die Flussmenge des zugeführten Prozessgases vom Durchmesser D der Siliziumstangen 15 abhängt.
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