发明名称 发射辐射的器件和用于制造发射辐射的器件的方法
摘要 提出了一种发射辐射的器件,其具有支承体(1)和至少一个设置在支承体上的半导体芯片(2)。半导体芯片(2)具有用于产生电磁辐射的有源层和第一接触层(21)。支承体(1)至少具有第一接触结构和第二接触结构(4a,4b),用于电接触所述至少一个半导体芯片(2)。半导体芯片(2)通过第一接触层(21)与第一接触结构(4a)导电连接。在半导体芯片(2)的至少一个侧面上至少局部地设置有钝化层(5)。在钝化层(5)的至少一个部分区域上设置有第二接触层(6),第二接触层从半导体芯片(2)的背离支承体(1)的表面通过钝化层(5)引导至第二接触结构(4b)。半导体芯片(2)并不具有生长衬底(10)。此外,提出了一种用于制造这种器件的方法。
申请公布号 CN101971374A 申请公布日期 2011.02.09
申请号 CN200980109063.8 申请日期 2009.05.08
申请人 欧司朗光电半导体有限公司 发明人 马蒂亚斯·扎巴蒂尔;西格弗里德·赫尔曼;贝恩德·巴克曼
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 王萍;周涛
主权项 一种发射辐射的器件,其具有支承体(1)和设置在支承体上的至少一个半导体芯片(2),其中‑半导体芯片(2)具有用于产生电磁辐射的有源层和第一接触层(21),‑支承体(1)至少具有第一接触结构和第二接触结构(4a,4b),用于电接触所述至少一个半导体芯片(2),‑半导体芯片(2)通过第一接触层(21)与第一接触结构(4a)导电连接,‑在半导体芯片(2)的至少一个侧面上至少局部地设置有钝化层(5),‑在钝化层(5)的至少一个部分区域上设置有第二接触层(6),该第二接触层从半导体芯片(2)的背离支承体(1)的表面通过钝化层(5)引导至第二接触结构(4b),以及‑半导体芯片(2)不具有生长衬底(10)。
地址 德国雷根斯堡