发明名称 |
发射辐射的器件和用于制造发射辐射的器件的方法 |
摘要 |
提出了一种发射辐射的器件,其具有支承体(1)和至少一个设置在支承体上的半导体芯片(2)。半导体芯片(2)具有用于产生电磁辐射的有源层和第一接触层(21)。支承体(1)至少具有第一接触结构和第二接触结构(4a,4b),用于电接触所述至少一个半导体芯片(2)。半导体芯片(2)通过第一接触层(21)与第一接触结构(4a)导电连接。在半导体芯片(2)的至少一个侧面上至少局部地设置有钝化层(5)。在钝化层(5)的至少一个部分区域上设置有第二接触层(6),第二接触层从半导体芯片(2)的背离支承体(1)的表面通过钝化层(5)引导至第二接触结构(4b)。半导体芯片(2)并不具有生长衬底(10)。此外,提出了一种用于制造这种器件的方法。 |
申请公布号 |
CN101971374A |
申请公布日期 |
2011.02.09 |
申请号 |
CN200980109063.8 |
申请日期 |
2009.05.08 |
申请人 |
欧司朗光电半导体有限公司 |
发明人 |
马蒂亚斯·扎巴蒂尔;西格弗里德·赫尔曼;贝恩德·巴克曼 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
王萍;周涛 |
主权项 |
一种发射辐射的器件,其具有支承体(1)和设置在支承体上的至少一个半导体芯片(2),其中‑半导体芯片(2)具有用于产生电磁辐射的有源层和第一接触层(21),‑支承体(1)至少具有第一接触结构和第二接触结构(4a,4b),用于电接触所述至少一个半导体芯片(2),‑半导体芯片(2)通过第一接触层(21)与第一接触结构(4a)导电连接,‑在半导体芯片(2)的至少一个侧面上至少局部地设置有钝化层(5),‑在钝化层(5)的至少一个部分区域上设置有第二接触层(6),该第二接触层从半导体芯片(2)的背离支承体(1)的表面通过钝化层(5)引导至第二接触结构(4b),以及‑半导体芯片(2)不具有生长衬底(10)。 |
地址 |
德国雷根斯堡 |