发明名称 | 等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置,属于微电子技术领域。所述装置包括用于诊断等离子体离子密度、电子密度、等离子体电势与等离子体电子温度等特性参数的诊断单元;用于获得等离子体中粒子组分和各组分粒子含量的分析单元;用于根据等离子体特性参数以及等离子体中粒子组分和所述各组分粒子含量,计算得出注入工艺参数的计算单元;以及用于根据计算单元的输出信号以及注入工艺参数控制等离子体浸没注入机的注入工艺的控制单元。本实用新型的等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置可以克服现有的离子注入剂量检测中存在多种带电离子检测的问题;同时还可以用于准确控制离子注入的工艺流程。 | ||
申请公布号 | CN201741661U | 申请公布日期 | 2011.02.09 |
申请号 | CN201020293992.9 | 申请日期 | 2010.08.17 |
申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 汪明刚;刘杰;夏洋;李超波;陈瑶;赵丽莉;李勇滔 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人 | 王建国 |
主权项 | 一种等离子体浸没注入机的注入离子剂量检测控制装置,其特征在于,所述装置包括:诊断单元,用于诊断等离子体特性参数;分析单元,用于获得等离子体中粒子组分和各组分粒子含量;与所述诊断单元和分析单元相连接的计算单元,用于根据所述等离子体特性参数以及所述等离子体中粒子组分和所述各组分粒子含量,计算得出注入工艺参数;与所述计算单元相连接的控制单元,用于根据所述计算单元的输出信号以及注入工艺参数控制等离子体浸没注入机的注入工艺。 | ||
地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |