发明名称 |
一种黑硅MSM结构光电探测器及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种黑硅MSM光电探测器,包括单晶硅衬底,其特征在于,在所述单晶硅衬底表面设置有作为光敏区的黑硅薄膜层,在所述黑硅薄膜层设有叉指电极,叉指电极下方设有势垒层,在没有设置叉指电极的区域设置有钝化层。该器件具有宽的光谱响应范围和较高的响应度,可以用以对紫外、可见或者近红外光探测。 |
申请公布号 |
CN101969080A |
申请公布日期 |
2011.02.09 |
申请号 |
CN201010249481.1 |
申请日期 |
2010.08.10 |
申请人 |
电子科技大学 |
发明人 |
蒋亚东;赵国栋;吴志明;李伟;姜晶;张安元;郭正宇 |
分类号 |
H01L31/101(2006.01)I;H01L31/0248(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/101(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种黑硅MSM光电探测器,包括单晶硅衬底,其特征在于,在所述单晶硅衬底表面设置有作为光敏区的黑硅薄膜层,在所述黑硅薄膜层设有叉指电极,叉指电极下方设有势垒层,在没有设置叉指电极的区域设置有钝化层。 |
地址 |
611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |