发明名称 电镀自焊接三维微电极阵列方法
摘要 本发明属于微电极制备技术领域,具体涉及电镀自焊接三维微电极的方法。其步骤是把微电极穿过金属微孔,并固定在插槽中;对微金属孔进行电镀,使金属孔逐渐变小,直到与穿过微金属孔的微电极结合在一起,从而实现了微电极与微金属孔的自焊接。这种焊接方法可以轻松实现金属微电极阵列与微金属孔的立体焊接,效果很好,并且方法简单,成本也较低。
申请公布号 CN101240435B 申请公布日期 2011.02.09
申请号 CN200810034328.X 申请日期 2008.03.06
申请人 复旦大学 发明人 吕尊实;周嘉;高安;纪新明;黄宜平
分类号 C25D2/00(2006.01)I 主分类号 C25D2/00(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 陆飞;盛志范
主权项 一种电镀自焊接三维电极阵列的方法,其特征在于具体步骤如下:(a)在绝缘插槽上固定金属微电极和有金属微孔的绝缘板,让金属微电极穿过金属微孔,并与绝缘插槽底部的胶带粘接;(b)把固定好的微电极与金属微孔浸入电镀溶液中,把所有金属微孔的集成互连线接到电镀电源的阴极,选择金属板作阳极;(c)对绝缘板中的金属微孔电镀,根据电镀孔的面积和数量确定电镀参数,每隔20~30分钟检查电镀的效果,直到暴露在电镀液中的微电极也镀上金属时,即完成微电极阵列的电镀自焊接;(d)从电镀液中取出电镀焊接好的微电极与绝缘板,用清水冲洗干净,并用氮气吹干,先后用丙酮和酒精超声清洗,去掉固定用的胶带,与插槽分离。
地址 200433 上海市邯郸路220号