发明名称 |
单室型真空热处理炉以及单室型真空热处理炉中的被处理品的氧化防止方法 |
摘要 |
本发明的单室型真空热处理炉(A),包括:炉主体,在炉壁(11)上设有水冷套(15),通过该炉壁(11)在内部形成有被处理品(W)的处理空间(S);加热装置(2),对设置在炉主体(1)内的被处理品(W)进行加热;冷却气体供给装置(3),向处理空间(S)内供给冷却气体;第一制冷剂循环系统,通过设置在处理空间(S)内的热交换器(52),经由上述冷却气体对被处理品(W)进行冷却;减压装置(4),对上述处理空间内进行减压;以及第二制冷剂循环系统,向冷却套(15)供给制冷剂;其中,上述第二制冷剂循环系统具备对制冷剂(C)进行加热的制冷剂加热部(65)。根据上述结构,能够在短时间内有效地防止炉主体(1)的内表面的结露,提高作业效率,获得良好的被处理品。 |
申请公布号 |
CN101970696A |
申请公布日期 |
2011.02.09 |
申请号 |
CN200980108462.2 |
申请日期 |
2009.03.12 |
申请人 |
株式会社IHI |
发明人 |
胜俣和彦 |
分类号 |
C21D1/773(2006.01)I;C21D1/74(2006.01)I;F27B5/04(2006.01)I;F27B5/18(2006.01)I;F27D1/18(2006.01)I;F27D7/06(2006.01)I;F27D9/00(2006.01)I;F27D19/00(2006.01)I;F27D21/00(2006.01)I |
主分类号 |
C21D1/773(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
崔幼平;杨楷 |
主权项 |
一种单室型真空热处理炉,包括:炉主体,在炉壁上设有冷却套,通过该炉壁在内部形成有被处理品的处理空间;加热装置,对设置在上述炉主体内的被处理品进行加热;冷却气体供给装置,向上述处理空间内供给冷却气体;第一制冷剂循环系统,通过设置在上述处理空间内的热交换器,经由上述冷却气体对上述被处理品进行冷却;减压装置,对上述处理空间内进行减压;以及第二制冷剂循环系统,向上述冷却套供给制冷剂;其特征在于,上述第二制冷剂循环系统具备对上述制冷剂进行加热的制冷剂加热部。 |
地址 |
日本东京都 |