| 发明名称 | 致动器系统、光刻设备以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 公开一种致动器系统，其具有第一致动器(XP1)和第二致动器(XP2)，配置成控制光刻设备的光学部件的相对位置。第一致动器(XP1)配置成提供光刻设备的第一部件的安装点和光刻设备的第二部件之间、平行于致动方向的位移。第二致动器(XP2)配置成在与第二致动器(XP2)相关的参考质量(M1)和光刻设备的第一部件的安装点之间提供平行于致动方向的位移。第二致动器(XP2)可以被驱动成使得第二致动器(XP2)与参考质量(M1)之间的位移提高第一致动器(XP1)的表观刚度。 | ||
| 申请公布号 | CN101971101A | 申请公布日期 | 2011.02.09 |
| 申请号 | CN200980109155.6 | 申请日期 | 2009.03.09 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | H·巴特勒 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种用于控制光刻设备内的第一部件相对于光刻设备内的第二部件的位置的致动器系统，包括：第一致动器，配置成提供第一部件的安装点和第二部件之间、沿平行于致动方向的方向的位移，以便控制第一部件相对于第二部件的位置；和第二致动器，配置成在与第二致动器相关的参考质量和光刻设备的第一部件的安装点之间提供位移，其中由第二致动器提供的位移的方向平行于由第一致动器提供的位移。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||