曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法

摘要

本发明提供一种曝光装置，即使掩膜的温度产生变化，其也可防止图案的曝光精度下降。照相机获得设置在掩膜上的检测用图案的图像，且输出图像信号。图像信号处理装置对照相机所输出的图像信号进行处理。主控制装置根据图像信号处理装置的处理结果，检测掩膜的伸缩量，且对温度控制装置设定夹盘的目标温度。热交换器使向热介质通路供给的二次热介质的温度及数量改变，以使夹盘的温度产生变化。温度传感器检测夹盘的温度，温度控制装置以使温度传感器所检测的夹盘的温度成为目标温度的方式，来控制热交换器。经由夹盘而高精度地调节基板的温度，并以与掩膜的伸缩相一致的方式使基板伸缩。

主权项

一种曝光装置，其在掩膜与基板之间设置着微小贴近间隙，将掩膜上的图案转印到基板上，其特征在于包括：检测机构，其检测由掩膜的温度变化而导致的伸缩量；以及基板温度调节机构，其根据上述检测机构的检测结果来调节基板的温度，且以与掩膜的伸缩相一致的方式使基板伸缩。