发明名称 |
通过控制激光光束对极紫外光源的空间不稳定性的校正 |
摘要 |
本发明提供一种方法,以相对于光刻设备的光学系统对准放电辐射源的放电轴线,所述方法包括在阳极和阴极之间的放电空间中的物质内产生放电以形成等离子体,以便产生电磁辐射。通过用能量束照射邻近所述放电空间的预定材料表面上的区域触发放电。响应于光刻设备中辐射的特性和/或光刻设备的收集装置的温度控制所述区域的位置。对照射区域位置的控制改善了放电轴线与不同的光刻模块的对准,例如污染物阻挡装置、照射系统、衬底台和/或投影系统。 |
申请公布号 |
CN101490624B |
申请公布日期 |
2011.02.09 |
申请号 |
CN200780027089.9 |
申请日期 |
2007.07.04 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
奥拉乌·瓦尔德马·弗拉基米尔·弗瑞杰恩斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H05G2/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
一种辐射系统,所述辐射系统包括:辐射源;阴极;阳极,其中所述阴极和所述阳极构造成在所述阳极和所述阴极之间的放电空间中的物质内产生放电以形成等离子体,以便产生电磁辐射;和触发装置,所述触发装置构造成通过用能量束照射邻近所述放电空间的预定材料表面上的区域引发放电,其中所述触发装置构造成响应输入信号控制区域的位置;其中,所述输入信号指示污染物阻挡装置的传输。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |