发明名称 |
维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法 |
摘要 |
维修方法,具备:将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30),将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。 |
申请公布号 |
CN101385124B |
申请公布日期 |
2011.02.09 |
申请号 |
CN200780005788.3 |
申请日期 |
2007.05.23 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
吴丽丽 |
主权项 |
一种曝光装置的维修方法,上述曝光装置用第1液体充满衬底载台所保持的衬底与光学构件之间以形成液浸空间,经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光,上述曝光装置的维修方法的特征在于包括:移动步骤,与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向,与上述衬底载台独立地配置可动载台;以及洗净步骤,从上述可动载台将第2液体供应到上述液浸空间形成构件与上述可动载台之间,且用超音波使上述第2液体振动来洗净上述液浸空间形成构件。 |
地址 |
日本东京 |