发明名称 维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法
摘要 维修方法,具备:将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30),将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
申请公布号 CN101385124B 申请公布日期 2011.02.09
申请号 CN200780005788.3 申请日期 2007.05.23
申请人 株式会社尼康 发明人 柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎
分类号 H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 吴丽丽
主权项 一种曝光装置的维修方法,上述曝光装置用第1液体充满衬底载台所保持的衬底与光学构件之间以形成液浸空间,经由上述光学构件与上述第1液体用曝光用光使上述衬底曝光,上述曝光装置的维修方法的特征在于包括:移动步骤,与使用上述第1液体形成上述液浸空间的液浸空间形成构件对向,与上述衬底载台独立地配置可动载台;以及洗净步骤,从上述可动载台将第2液体供应到上述液浸空间形成构件与上述可动载台之间,且用超音波使上述第2液体振动来洗净上述液浸空间形成构件。
地址 日本东京