一种用于测量套准精度的测量结构

摘要

本实用新型提供一种用于测量套准精度的测量结构，包括前层被对准结构和当前层对准结构两部分组成，所述测量结构为中心轴对称图形，所述前层被对准结构相对所述当前层对准结构在X轴和Y轴方向上有偏移。所述前层被对准图形相对于当前层对准图形在X轴、Y轴方向上分别引入了偏移量后，通过工艺制作后的测量结果与预设偏移量的比较，可以测出并校正工艺或测量等方面产生误差，提高测试精度和可信度，减少了工艺的负面影响，并且避免了硅片的报废，减小损失，缩短了周期流程较长，且图形简单，便于制作，可重复使用，有利于大量生产。所述测量结构可应用于光刻机对准标记、套准标记、游标标记、目测标记、线宽测量标记等。

主权项

一种用于测量套准精度的测量结构，为中心轴对称图形，其特征在于，包括前层被对准结构和当前层对准结构两部分，所述前层被对准结构相对所述当前层对准结构在X轴方向和Y轴方向上有偏移量。