TEST SYSTEM FOR DETECTING DEFECTS OF FORM AND/OR POSITIONAL DEFECTS OF WAFERS

摘要

Die Erfindung betrifft ein Testsystem zur Detektion von Form- und/oder Lagefehlern von Wafern (9) während eines Umsetzvorgangs. Das Testsystem weist eine optische Erfassungsvorrichtung (8) und eine Haltevorrichtung (14) auf. Mit der Haltevorrichtung (14) ist ein Wafer (9) in einem Erfassungsbereich (B) der optischen Erfassungsvorrichtung (8) positionierbar. Auf einer von der Erfassungsvorrichtung (8) abgewandten Seite der Haltevorrichtung (14) ist eine Lichtquelle (12) angeordnet.