| 主权项 |
1.板状四角形铺石具有一平坦的上表面及垂直于侧面延伸之框形凸块,其特征在:每一个侧面具有两个凸块,而其中一个(4')装置在相邻侧面(3)之隔着夹角彼此对立的角边缘(5)上,由铺石之平坦的上表面视之,而另一个凸块(4")装置在距相邻侧面(3)之另两个对立角边缘(6)约比凸块(4')之纵长稍长之距离处。2.如申请专利范围第1项所述之铺石,其中:凸块(4',4")之凸出端边藉着彼此倾斜延伸之侧平面(7)来分界。3.如申请专利范围第1项所述之铺石,其中:凸块(4',4")之高度设计得与铺石厚度一样。4.如申请专利范围第1项所述之铺石,其中:凸块(4',4")之高度小于铺石厚度,并且终止在表平面内(图5)。5.如申请专利范围第1项或第2项所述之铺石,其中:凸块(4',4")在上端边藉着一个以上表面方向延伸之倾斜平面(19)来分界。6.如申请专利范围第1项所述之铺石,其中:各一侧面上之两个凸块(4',4")彼此以相同的距离成形在侧面上。7.一种板状四角形铺石具有一个平坦的上表面及垂直于侧面延伸的框形凸块,其特征在:每一侧面上具有两个凸块,而一个凸块(12')装置在彼此对立之侧面(15)之所属的角边缘(14)其中一个上,由铺石之平坦上表面视之,另一个凸块(12")以距角边缘(14)约比凸块(12')的纵长稍长之距离,装置在另两个侧面(图4)。8.如申请专利范围第7项所述之铺石,其中:凸块(12',12")在凸出的端边藉着彼此倾斜延伸之侧平面(20)来分界。9.如申请专利范围第7项所述之铺石,其中:凸块(12',12")之高度与铺石厚度相同(图9)。10.如申请专利范围第7项所述之铺石,其中:凸块(12',12")之高度小于铺石厚度,并且终结在表平面下部。11.如申请专利范围第7项所述之铺石,其中:凸块(12',12")之上端边藉着一个以上平面方向延伸的斜平面来分界。12.一种板状四角形铺石具有一个平坦的上表面及垂直于侧面延伸之框形凸块,其特征在:每一侧面(26,27)具有2个凸块(22,22',22"),而一个凸块(22)成形在两相邻侧面(26)之一角度边(23)上,一个凸块(22")成形在同一侧面(26)上之另一角边缘(24)上;其特征在:由铺石之平坦上表面视之,凸块(22")以距角边缘(24,25)大约比凸块(22,22')之纵长稍长的距离,装置在另两个侧面(27)上(图16-24)。13.如申请专利范围第12项所述之铺石,其中:凸块(22,22',22")之高度与铺石厚度相石。14.如申请专利范围第12项所述之铺石,其中:凸块(22,22',22")在凸出端边藉着彼此倾斜延伸之侧平面(28)来分界。15.如申请专利范围第12项所述之铺石,其中:凸块(22,22',22")之高度比铺石厚度小,并且终结在上表面下部(图24)。16.如申请专利范围第12项所述之铺石,其中:凸块(22,22',22")在其上端边藉着一个以铺石之上表面方向来延伸的平坦倾斜平面或者弓形平面(29)来分界。图1,铺石之上视图,图2,如图1,铺石的侧视图,图3,依照图1,铺石的其他侧视图,图4,一个经设计改变后之铺石的上视图,图5,依照图4,铺石的侧视图,图6,依照图4,铺石的另一侧视图,图7,依照图4,铺石的另一面侧视图,图8,图1中铺石之一小块部份,图9,依照图1,铺石排列的样本上视图(交叉砌合),图10,依照图1,铺石排列的另一样本之上视图,图11,依照图1,铺石另一个排列样本的上视图(纵向平砌组合),图12,依照图4,铺石的排列样本之上视图(交叉砌合组合),图13,依照图4,铺石的其他排列样本之上视图(交叉砌合组合),图14,依照图4,一铺石的排列样本变格之上视图(纵向平砌组合),图15,依照图4中之铺石,其经设计后之排列样本的上视图(纵向平砌组合),图16,符合其他设计之铺石的上视图,图17,依照图16中之铺石,其以交叉砌合方式组合之宽隙缝的排列样本之上视图,图18,依照图16,用铺石以交叉砌合之方式窄隙缝之排列样本的上视图,图19,依照图16,用铺石以纵向砌平方式,宽隙缝之排列样本的上视图,图20,依照图16,用铺石以纵向砌平方式,窄隙缝之排列样本的上视图,图21,依照图16,用铺石以交叉砌合方式,宽及窄隙缝之排列样本的上视图,图22,依照图16,用铺石以纵向砌平方式,宽及窄隙缝之排列样本的上视图,图23,依照图16,具有分离线的铺石之 |
